离子注入工艺是把杂质离子加速后入射到材料中去,离子束与材料中的原子或分子将发生一系列物理的和化学的相互作用,入射离子逐渐损失能量,最后停留在材料中,并引起材料表面成分、结构和性能发生变化,从而优化材料表面性能,或获得某些新的优异性能。
离子注入后将原子撞出晶格结构而造成晶格损伤,通过快速退火使原材料的原子和杂质原子在热的作用下发生移动,并最终扩散到晶格点,形成电学,活性的离子掺杂。
嘉仪通快速退火炉系列,有着高温场均匀性,采用红外辐射加热技术同时搭配高精度温度控制系统,可实现样品快速升温和退火,对新材料相关的RTP研究工作起到重要作用。
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